半導体製造装置の専門コンサルタント

大手DRAM半導体メーカーで20年の実績

DRAM製造装置のトラブル解析・業務改善・コスト削減を支援

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代表プロフィール

2005年に大手DRAM半導体メーカーに入社し、約20年間Equipment技術者として従事。DRAM半導体製造装置の管理・最適化において豊富な実績を持ち、2025年9月に独立してコンサルティング事業を開始しました。

専門分野

  • WET工程(洗浄プロセス)
  • CMP工程(化学機械研磨)
  • Cu plating工程(銅めっき)
  • Asher工程(アッシング)

マネジメント経験

マネージャー業務を経験し、チーム管理やコストマネジメントにも精通しています。また、海外ファブとの業務経験により、英語でのコミュニケーションにも対応可能です。

半導体製造ロボット
最先端の半導体製造装置

提供サービス

🔍

装置トラブル解析

DRAM製造装置(WET/CMP/Cu plating/Asher)のトラブルシューティング。データ分析により根本原因を特定し、再発防止策を提案します。

📊

業務改善コンサルティング

製造プロセスの最適化、作業効率の向上、品質管理の強化など、現場の課題に応じた改善策を提供します。

💰

コスト削減提案

装置稼働率の向上、メンテナンスコストの削減、消耗品管理の最適化など、実践的なコスト削減策を提案します。

📈

データ収集・解析業務

製造データの収集、整理、解析業務を代行。エンジニアの負荷を軽減し、本質的な業務に集中できる環境を作ります。

👥

エンジニア育成支援

半導体製造装置に関する技術トレーニング、OJT支援、マニュアル作成など、人材育成をサポートします。

スポットコンサルティング

短期的な課題解決や専門知識の提供など、必要な時に必要なだけご利用いただけるスポット対応も可能です。

対応工程

半導体ウェハー

WET / CMP工程

洗浄プロセスと化学機械研磨の最適化。20年の経験に基づく高度なトラブルシューティングとプロセス改善を提供します。

製造装置

Cu Plating / Asher工程

銅めっきとアッシングプロセスの管理。装置パフォーマンスの向上とコスト削減を実現します。

クリーンルーム

クリーンルーム管理

クリーンルーム環境の最適化と品質管理。製造環境全体の効率化をサポートします。

データ解析

データ解析・最適化

製造データの詳細な分析により、隠れた課題を発見し、生産性向上を実現します。

対応技術領域

WET工程

洗浄プロセス最適化

CMP工程

化学機械研磨

Cu Plating

銅めっきプロセス

Asher工程

アッシングプロセス

ETSCの強み

🎯

20年以上の実務経験

大手DRAM半導体メーカーでの豊富な現場経験に基づく実践的なソリューション

迅速な対応

個人事業主ならではのスピード感で、緊急の課題にも柔軟に対応

💰

コスト効率

大手コンサルティング会社と比較して、柔軟な価格設定でサービス提供

🌐

バイリンガル対応

日本語・英語での業務対応が可能(海外ファブとの連携経験あり)

お問い合わせ

半導体製造装置に関するお悩みやご相談は、お気軽にお問い合わせください。
初回相談は無料で承ります。

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