ETSC
-Engineer Technical Support Company-
半導体前工程装置に20年 ｜ WET・CMP・Cuめっき・アッシング
根本原因→恒久対策。納期を守り、稼働率・欠陥・コストの“測定可能な目標”に対して成果を出します。
初回のご相談は30分・無料です。Fit Callで、課題が解決対象かをその場で判定します。
数値は私自身の経験・一般化の範囲です。守秘義務のある情報は含みません。
2005年に大手DRAM半導体メーカーに入社し、約20年間Equipment技術者として従事。DRAM半導体製造装置の管理・最適化において豊富な実績を持ち、2025年9月に独立してコンサルティング事業を開始しました。
マネージャー業務を経験し、チーム管理やコストマネジメントにも精通しています。また、海外ファブとの業務経験により、英語でのコミュニケーションにも対応可能です。
WET/CMP/Cuめっき/アッシングの不具合を、データから根本原因を特定。再発を止める恒久対策で稼働率を回復します。
手順の標準化とFDC/APCの作り込みで、現場の負荷とムダを削減。少ない工数で回る運用に整えます。
PM周期・薬液・部品の使い方を見直し、性能を保ったままコストを削減。年間ベースの効き目で提案します。
装置ログ・SPC・欠陥データを解析し、見えていなかった真因を可視化。次の一手を数字で示します。
OJT支援・マニュアル整備・技術トレーニングで、現場のノウハウを個人から組織へ移転します。
短期・スポットで課題解決や知見提供に対応。必要な時に、必要な分だけご利用いただけます。
お困りごとを1つ持ち寄っていただき、ETSCで解決できる課題かをその場で判定します。売り込みはしません。
稼働率・欠陥率・部品費など“測定可能な目標”と期限を、着手前に必ず決めます。
レポートで終わらせません。現場で真因を突き止め、恒久対策まで実行。合意した数値に対して結果を測ります。
洗浄プロセスと化学機械研磨の最適化。20年の経験に基づく高度なトラブルシューティングとプロセス改善を提供します。
銅めっきとアッシングプロセスの管理。装置パフォーマンスの向上とコスト削減を実現します。
クリーンルーム環境の最適化と品質管理。製造環境全体の効率化をサポートします。
製造データの詳細な分析により、隠れた課題を発見し、生産性向上を実現します。
洗浄プロセス最適化
化学機械研磨
銅めっきプロセス
アッシングプロセス
大手DRAM半導体メーカーでの豊富な現場経験に基づく実践的なソリューション
個人事業主ならではのスピード感で、緊急の課題にも柔軟に対応
大手コンサルティング会社と比較して、柔軟な価格設定でサービス提供
日本語・英語での業務対応が可能（海外ファブとの連携経験あり）
装置・プロセスの現場知見を、記事とニュースレターで発信しています。どんな視点で課題を見ているかは、発信からもご確認いただけます。